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微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹
微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實(shí)驗(yàn)室中CVD或DLCVD實(shí)驗(yàn)的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個(gè)數(shù)字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動(dòng)泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機(jī)物混合。對于研究用...

2021-06-18
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  • 如何選擇合適的真空氣氛管式爐進(jìn)行實(shí)驗(yàn)?

    真空氣氛管式爐作為一種實(shí)驗(yàn)設(shè)備,在材料科學(xué)、物理化學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,選擇一臺合適的管式爐對于實(shí)驗(yàn)的成功至關(guān)重要。一、明確實(shí)驗(yàn)需求在選擇真空氣氛管式爐之前,先要明確實(shí)驗(yàn)的具體需求。這包括實(shí)驗(yàn)所需的溫度范圍、加熱速度、保溫時(shí)間、氣氛類型(真空、惰性氣體或還原性氣體等)以及樣品尺寸等。只有明確了這些需求,才能有針對性地選擇合適的設(shè)備。二、考察設(shè)備性能溫度控制精度:高精度的溫度控制對于實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性至關(guān)重要。因此,在選擇時(shí),應(yīng)關(guān)注設(shè)備的溫度控制精度和穩(wěn)定性。加熱元件與材料...

    202410-28
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  • CVD氣相沉積薄膜生長過程

    CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。主要特點(diǎn):1、CVD可以在不同的基材表面沉積高純度的薄膜,且厚度均勻,適用于精細(xì)的電子器件和高質(zhì)量涂層。2、通過化學(xué)反應(yīng)生成的薄膜通常與基材具有良好的附著力,這使得薄膜在使用過程中不易剝落。3、CVD技術(shù)能夠在復(fù)雜形狀的基材上形成均勻的涂層,包括在深孔和狹縫中,這...

    202410-9
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  • PCVD工藝的具體流程

    PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是一種利用等離子體來促進(jìn)氣體反應(yīng)的CVD技術(shù)。其特點(diǎn)包括:1、低溫沉積:PECVD可以在較低的基材溫度下進(jìn)行,因?yàn)榈入x子體提供的能量能夠促進(jìn)氣體反應(yīng),降低沉積溫度的需求。2、高沉積速率:等離子體增強(qiáng)了氣體反應(yīng)速率,從而提高了薄膜沉積速率。3、良好的膜質(zhì)量:PECVD沉積的薄膜通常具有較好的均勻性和較低的缺陷密度,適用于需要高質(zhì)量薄膜的應(yīng)用。4、適應(yīng)性強(qiáng):可以沉積多種材料,包括氧化物、氮化物和氟化物等,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電器件和保護(hù)涂層等領(lǐng)域...

    20249-26
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  • 安全使用真空氣氛管式爐的注意事項(xiàng)

    真空氣氛管式爐是一種加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)工程等領(lǐng)域。一、設(shè)備安裝與調(diào)試1.安裝環(huán)境確保它安裝在干燥、通風(fēng)良好且無振動(dòng)的環(huán)境中。避免陽光直射和高溫環(huán)境,以免影響設(shè)備的正常運(yùn)行。2.接地與電源檢查設(shè)備的接地是否牢固可靠,確保在意外情況下能有效防止觸電事故。同時(shí),確認(rèn)電源電壓與設(shè)備額定電壓相符,避免因電壓不穩(wěn)導(dǎo)致設(shè)備損壞。3.調(diào)試與檢查在正式投入使用前,進(jìn)行空載試運(yùn)行,觀察設(shè)備運(yùn)行是否正常。檢查各部件連接是否緊固,密封性能是否良好,以確保設(shè)備的安全性能。二、操作過程中...

    20249-23
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  • CVD氣相沉積在光電器件中的應(yīng)用前景

    一、CVD技術(shù)概述CVD是一種在氣相中進(jìn)行的沉積工藝,利用化學(xué)反應(yīng)將氣態(tài)前驅(qū)體轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜。該過程能夠在各種基材上沉積高質(zhì)量的薄膜,具有優(yōu)異的致密性和均勻性。CVD技術(shù)的優(yōu)勢在于其對薄膜厚度、成分和微觀結(jié)構(gòu)的精確控制,使其成為光電器件制造的重要手段。二、光電器件中的應(yīng)用太陽能電池在光伏行業(yè)中,CVD被廣泛應(yīng)用于薄膜太陽能電池的制造。通過CVD技術(shù),能夠在基板上沉積高質(zhì)量的硅薄膜,顯著提升光電轉(zhuǎn)換效率。研究表明,采用CVD沉積的非晶硅和多晶硅薄膜在性能上優(yōu)于傳統(tǒng)的晶體硅太陽能...

    20249-19
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  • 混合箱式爐的操作指南與維護(hù)技巧說明

    混合箱式爐是一種高效、節(jié)能的加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域。為了確保其安全、穩(wěn)定地運(yùn)行,以下將詳細(xì)介紹的操作指南與維護(hù)技巧。一、操作指南1.開箱檢查在使用前,請仔細(xì)打開包裝并進(jìn)行全面檢查,確保爐體、控制系統(tǒng)及附件完好無損。2.安裝與調(diào)試按照廠家提供的安裝說明進(jìn)行安裝,并確保電源電壓與爐體額定電壓相符。接通電源后,進(jìn)行空載試運(yùn)行,觀察爐體運(yùn)行是否正常。3.加熱操作根據(jù)工藝要求設(shè)定加熱溫度和時(shí)間。加熱過程中,請勿觸摸爐門及加熱元件,以防燙傷。達(dá)到設(shè)定溫度后,需等待一段...

    20249-9
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  • 真空管式爐的工作原理與基本構(gòu)造是怎樣的?

    真空管式爐是一種在真空或受控氣氛環(huán)境下對材料進(jìn)行熱處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于金屬材料、陶瓷、化合物等材料的燒結(jié)、熱處理和分析。其工作原理與基本構(gòu)造是理解其性能和應(yīng)用的關(guān)鍵。它的核心工作原理是利用電阻加熱元件在真空或保護(hù)氣氛中對樣品進(jìn)行加熱處理。工作過程主要包括真空獲得、加熱、冷卻三個(gè)階段。在真空獲得階段,通過真空泵系統(tǒng)將爐內(nèi)氣體排出,形成負(fù)壓環(huán)境,以減少氣體分子對樣品的干擾和污染。加熱階段是通過電流流經(jīng)爐內(nèi)的加熱元件,產(chǎn)生焦耳熱,使?fàn)t內(nèi)溫度升高至設(shè)定值。冷卻階段則通常采用自然冷卻...

    20248-27
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  • 真空燒結(jié)爐的常規(guī)注意內(nèi)容

    高真空坩堝熔煉爐可用來熔煉各種易氧化金屬,如鋁,金,鋰,鎂等。其主要供大專院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。特點(diǎn):采用電阻絲加熱,可在1100℃長期工作直徑Φ50mm石英管,CF密封法蘭,爐管內(nèi)真空度可達(dá)10-6Torr(分子泵系統(tǒng))采用PID方式控溫,控溫精度為+/-1℃爐管:單端封口高純石英管外徑:Φ50mm(偏差&plusm...

    20248-14
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  • 真空氣氛管式爐的節(jié)能減排特性分析

    現(xiàn)在大家對環(huán)保意識日益增強(qiáng),節(jié)能減排已成為各行各業(yè)的重要發(fā)展方向。在材料熱處理領(lǐng)域,真空氣氛管式爐憑借其節(jié)能減排特性,受到了廣泛關(guān)注。一、工作原理真空氣氛管式爐是一種采用真空技術(shù)進(jìn)行材料熱處理的設(shè)備。在真空環(huán)境下,通過加熱元件對爐膛內(nèi)的材料進(jìn)行加熱處理,同時(shí)通過氣氛控制系統(tǒng)保持爐內(nèi)氣氛的穩(wěn)定,從而實(shí)現(xiàn)材料的退火、淬火等熱處理工藝。二、節(jié)能減排特性分析高效節(jié)能:采用真空技術(shù),有效降低了爐內(nèi)熱量損失,提高了熱效率。同時(shí),采用先進(jìn)的加熱元件和控制技術(shù),可實(shí)現(xiàn)快速升溫、精確控溫,進(jìn)一...

    20247-25
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  • 移液器的移取方法

    移液器也叫移液槍,是在一定量程范圍內(nèi),將液體從原容器內(nèi)移取到另一容器內(nèi)的一種計(jì)量工具,被廣泛用于生物、化學(xué)等領(lǐng)域。移液器的性能特點(diǎn):1、輕便且設(shè)計(jì)符合人機(jī)工效學(xué);2、數(shù)字視窗,令所設(shè)定量程一目了然;3、量程范圍廣,0.1uL至10mL;4、使用附件工具,能方便快捷地進(jìn)行校準(zhǔn)和維修;5、準(zhǔn)確的分液,每支移液器都按EN/ISO8655標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行校準(zhǔn);6、下半支可高溫高壓消毒;7、采用新型材料。移取方法:1.前進(jìn)移液法按下移液操作桿至第一停點(diǎn)位置,然后緩慢松開按鈕回原點(diǎn);接著將移液操...

    20247-23
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  • 真空感應(yīng)熔煉爐的維護(hù)與操作技巧說明

    真空感應(yīng)熔煉爐是一種金屬熔煉設(shè)備,廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、材料科學(xué)等領(lǐng)域。它利用真空技術(shù),在低于大氣壓的壓力下,通過感應(yīng)加熱使金屬熔化。為了確保設(shè)備的正常運(yùn)行和延長使用壽命,需嚴(yán)格遵守操作規(guī)程和維護(hù)保養(yǎng)制度。一、維護(hù)保養(yǎng)定期檢查:定期進(jìn)行全面檢查,包括爐體、真空系統(tǒng)、感應(yīng)加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等。檢查各部件的緊固情況、密封性能、電氣連接等,確保設(shè)備處于良好狀態(tài)。保持清潔:保持爐內(nèi)外清潔,避免灰塵、雜物進(jìn)入爐內(nèi)。定期清理爐膛內(nèi)的金屬殘?jiān)?、氧化物等,以保持爐膛的清潔和熱量傳遞效率。檢查...

    20247-16
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  • 操作PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積設(shè)備的安全指南

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積在半導(dǎo)體、光伏、納米材料等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。然而,由于其涉及等離子體和高能氣體,操作過程中存在一定的安全風(fēng)險(xiǎn)。為了確保人員安全和設(shè)備正常運(yùn)行,以下是一份關(guān)于操作設(shè)備的安全指南。一、個(gè)人防護(hù)裝備佩戴防護(hù)眼鏡:在操作設(shè)備時(shí),必須佩戴防護(hù)眼鏡,以防止等離子體或高溫氣體對眼睛造成傷害。穿戴防護(hù)服:穿戴合適的防護(hù)服,以防止高溫氣體或?yàn)R出的化學(xué)物質(zhì)濺到皮膚上。使用手套:在操作設(shè)備時(shí),佩戴適當(dāng)?shù)氖痔?,以防止?fàn)C傷或接觸到有害化學(xué)物質(zhì)。二、設(shè)備安全檢查檢查電源:在...

    20247-4
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