VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)

產(chǎn)品型號(hào)：VTC-600-3HD
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-08-19
訪(fǎng) 問(wèn) 量：2263

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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子

    三靶磁控濺射儀主要特點(diǎn)：

    1、配置三個(gè)靶槍?zhuān)粋€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶(hù)需要任意調(diào)換）。

    2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

    3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

    4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要調(diào)整。

    5、可根據(jù)用戶(hù)實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍。

    技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱(chēng)	VTC-600-3HD雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào)	VTC-600-3HD
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到 E-5mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：3個(gè) 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W（可選） 9、射頻濺射功率：300W/500W（可選） 10、載樣臺(tái)：Ø140mm，可根據(jù)客戶(hù)需求選配加裝偏壓功能，以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護(hù)氣體：Ar、N2等惰性氣體 13、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，1個(gè)流量為100 SCCM，1個(gè)流量為200 SCCM
產(chǎn)品規(guī)格	主機(jī)尺寸：500mm×560mm×660mm，整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg
標(biāo)準(zhǔn)配件	1直流電源控制系統(tǒng)2套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)1套 4分子泵（德國(guó)進(jìn)口）1臺(tái) 5冷水機(jī)1臺(tái) 6冷卻水管（Ø6mm）4根
可選配件	金、銦、銀、鉑等各種靶材掩膜版振動(dòng)樣品臺(tái)