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PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆（如：制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。

1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)，OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆（如：制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。