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雙通道ALD管式爐系統(tǒng)ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個(gè)ALD進(jìn)氣閥、1個(gè)精密液體氣相發(fā)CVD生長(zhǎng)納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)使得更多的科擔(dān)的低成本情況下實(shí)現(xiàn)ALD工藝實(shí)驗(yàn)。
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